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光掩膜石英基板,DUV石英玻璃光罩生产加工(大尺寸光罩定制)

发布时间:2020/10/22

光掩膜石英基板,DUV石英玻璃光罩生产加工(大尺寸光罩定制)

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价很高的一部分,也是限制很小线宽的瓶颈之一。

光掩膜石英基板除了用于芯片制造外,还广泛应用于LCD、PCB等方面。常见的光掩模有四种:镀铬、干膜、浮雕和液体浮雕。它主要由基材和不透明材料两部分组成。衬底通常是高纯度、低反射率和低热膨胀系数的石英玻璃。通过溅射,镀铬板的不透明层在玻璃下约0.1um厚的铬层。铬的硬度略小于玻璃的硬度。虽然不易损坏,但可能被玻璃损坏。用于芯片制造的光掩模是高灵敏度的铬板。干版涂布乳胶,硬度小,易吸尘,但干版也有涂布和超细颗粒干版,后者可用于芯片制造。通常讲的菲林即film,底片或胶片的意思,感光为微小晶体颗粒。

光掩膜石英基板

光掩膜石英基板工艺要求

对于数据处理的工艺要求,主要来源于工艺要求。在图形处理中,有:

1,直接对应于光掩模,直接对应于一层布局,如金属层。

2。逻辑操作光刻图形可以从一个或多个层派生。例如,定义pplu和nplu以互补。如果只有pplu,则通过pplu执行逻辑非运算获得nplu。在实践中,它是以倒装的形式实现的。但是,应该注意的是,在某些逻辑操作中,层的顺序非常重要。与反转相结合,操作顺序也很重要。

3。图形缩放是大小操作。例如,栅很处的注入层从栅很尺寸放大。

在完整的掩模图形中,除了相应的电路图形外,还有一些辅助图形或测试图形。常见的有:游标卡尺、光刻对准图案、曝光控制图案、测试按键图案、光学石英玻璃对准靶标图案、刻划槽图案等标识名称和类型。

DUV石英玻璃光罩

DUV石英玻璃光罩

漏率: <2x10(-10) atm cc/sec 氦气

平行度: <10 Arc Minutes

法兰材料: 304/316 不锈钢

平面度: l/4 @ 632nm Transmitted Wavefront

表面抛光度:20/10

热量范围: -100˚C- 200˚C

材料: Corning HPFS 7980 Fused Silica

传感:≥99.8% @ 248nm (内部)

均匀等级: A

杂质等级: 0

观察窗,熔融石英,纵深紫外(DUV),窗体2.4,焊接

激光级石英窗体,烘烤温度达200摄氏度,无磁性材料,高真空中的传输范围可达248纳米,零长度型,超高真空适用

大尺寸光罩又称光掩模、掩模、英文名掩模或产品是由石英玻璃、金属铬和光敏胶制成。本产品以石英玻璃为基材,涂上一层金属铬和感光胶,成为感光材料。所设计的电路图案通过电子激光设备曝光在感光胶上,曝光区将展开,在金属铬上形成一个电路图案,形成类似于曝光负片的光掩模。然后将其应用于集成电路的投影定位。通过集成电路光刻机,对投影电路进行光刻。其制作工艺是:曝光、显影、去除感光胶,很后应用于光蚀刻。

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