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硼硅平板玻璃
硼硅平板玻璃浮法高硼硅耐热冲击平板玻璃是一种很具发展前途的实用性新型玻 璃。与普通钠钙硅平板玻璃相比,产品具有膨胀系数低、耐热冲击性能高、密度小、强度 高、坚硬耐磨的特点,并具有优异的化学稳定性和较高的透过率。该产品利用浮法工艺生 产,可大大降低生产成本,经济效益显著,为浮法玻璃产品增添新的品种。主要技术指标: 玻璃软化点〉770°C,热膨胀系数(40〜50)X10_7/°C,密度(20〜300°C) 2. 2g/cm3,莫
氏硬度>6级,耐热冲击性能>180°C,很高使用温度450°C。利用浮法工艺生产的高硼硅耐 热冲击平板玻璃主要应用包括:高层建筑和大型公共建筑所要求的防火门、窗以及室内的防 火隔断,其防火性能远优于目前市场上所销售的复合或单片防火玻璃;可应用于平板太阳能 集热器盖板、太阳能电池基板和太阳能电池盖板玻璃等(目前我国太阳能光伏电池组件的盖 板玻璃的总需求约为600万〜800万平方米/年,依赖于进口产品);电子工业的光电转换器 基板玻璃、印刷感光板、光学器件等;家用电器的微波炉、烤箱等电器用耐热玻璃。此外, 硼硅平板玻璃还在仪表、生物、医疗、电子信息产业等领域有广阔的应用前景。
PDP玻璃
PDP玻璃不同品种的显示器对玻璃热学性质提出不同的要求,占显示器主导地 位的等离子显示器(PDP)需要在基板上印刷A1或Ni电路,涂覆绝缘胶,并在500°C左右 进行热处理,要求在此温度下玻璃基片不致炸裂和变形。具有高的机械强度和化学稳定性则 是PDP基片必须达到的性能,根据各类显示器对面板和基片性质以及生产工艺的要求,采 用了不同类型的成分,如钠钙硅酸盐(Si02-Al203-Ca0-Mg0-R20)系统是很常见的成分, 适合于垂直引上、平拉、浮法、垂直下拉等方法生产ITO膜基片以及黑白PDP基片。在彩 色PDP开发的初期,普遍使用钠钙硅酸盐玻璃,但随着大屏幕PDP的研制,钠钙玻璃的缺 点明显呈现,如玻璃的应变点低于PDP加工工序低熔点焊料的热处理温度,容易造成基片 玻璃的变形和收缩;玻璃的热稳定性差,反复烧结时引起玻璃收缩量的变化,造成制作在基 片上面各部件尺寸、形状和结构发生变化,从而导致PDP图像失真,光电参数严重变化。 为了解决这些问题,国外研制出热膨胀系数和钠钙玻璃几乎相同而应变点和退火点比钠钙玻 璃高60°C左右的低碱(Li20 + Na20+K20为8%〜13%)玻璃,其主要成分为Si()2- Al2C)3-CaO-Mg()-SrO-Ba〇-R2〇还引入0. 5%〜6%的Zr()2以提高耐热性和化学稳定性。玻 璃的线膨胀系数为83X10-7/°C,而应变点提高到620°C,软化点提高到830°C,玻璃可以 用浮法技术成形。目前,PDP基板生产制造商主要是日本旭硝子公司、电气硝子公司和板 硝子公司。