玻璃抛光机抛光时的处理方式

玻璃抛光机理有不同的学说。很早Beily认为玻璃表面曾具有一定流动性，然后冷却而表面 张力形成光滑的抛光表面，虽然塑性流动是金属特有性质，但玻璃在一定程度上也有此现象，其 流动层厚度为0.025〜l_Mm，玻璃表面凹凸层被抛光而去除，表面层不完全被抛除掉，而是有相 当数量被转移到正在抛光的玻璃的其他区段，填充隆凸之间的凹陷。

Finch提出抛光时形成性质与玻璃基体有一些区别的卩表面层理论，此表层是抛光过程中玻 璃在抛光剂作用下产生的，抛光剂使玻璃表层分子能克服内聚力而进行位移，表面分子的移动传 到下层分子，使下层分子在此影响下重新排列而形成特殊层，厚度约为4pon，称为(3表面层，此 层比玻璃基体部分易于发生塑性变形，进行着与抛光有关的现象。抛光剂红粉作用于玻璃表面， 将与红粉颗粒同样大小、十分之几微米的玻璃碎屑除去；同时红粉团的运动，引起玻璃表层分子 重排，形成卩层，卩层随玻璃表面的拋除而不断地向内部扩展；这两个过程同时进行，使研磨过 程所留下来的凹凸部分被抛除。抛光初期阶段应有足够的水量，抛光后期减少水分或停止抛光液 的供应，称为干拋光。

Preston将抛光机械理论，应用到抛光过程中，采用树脂抛光盘对玻璃抛光时，很细的抛光 剂颗粒以连续薄层固定分布在拋光盘表面，抛光盘转动时，这些拋光剂颗粒在玻璃表面形成无数 波纹形状的振动擦痕，其尺寸很小，几乎为超微尺寸。这些振动擦痕纵横交叉，在抛光表面形成 细微裂纹连续体系。以后在干抛光阶段，抛光盘与玻璃紧密接触，由于此阶段使抛光盘脱离玻璃 需要很大的力，因此整个裂纹体系都被彻底除去，这时正像Beily所观察到的那样，新表面发生轻微的分子重排。

以后，还有Thompson、Bowden、Klemm、Smekal、Kaller等分别提出了抛光理论，不过不 如Beily、Preston抛光理论影响大，其中大部分认为抛光过程是材料表层的塑性流动，此流动是 由于温度局部升高而引起，或者不取决于温度而由于高压引起，由于形成流动层，材料发生转 移，使很微小不平部分平整，并将研磨留下的裂纹抹平。

对于抛光玻璃表面极微小不平部分的尺寸，学者所得数据也不一致，Tolansky认为1〜4nm， Kaller发现研磨又抛光后，除了有研磨凹陷与裂纹残留的深凹槽以外，还有抛光表面特有精细结 构，其不平部分的尺寸为6〜8nm，Kallei•得出抛光过程中被磨掉抛除的玻璃颗粒平均为1〜1. 2nm。 用干涉条纹测定抛光玻璃表面不平尺寸，各学者得到的结果相差也比较大，美国学者指出表面不 平尺寸小于2nm，Ep_eH6epr用X射线衍射法测出光学平面的不平部分为±lnm，K6chler用多光 束干涉发现抛光玻璃表面除了研磨凹陷或裂纹所遗留下的凹槽外，还发现了抛光表面所特有的精 细结构，不平部分尺寸为6〜8mn，而前苏联Ky₃He_UOB也用多光束干涉法测出抛光隆凸层和凹陷 尺寸则为30〜90nm。

由于各学者所用拋光玻璃成分不同、抛光材料和工艺也有差别，测试方法也不同，即使相同 测试方法，但不是同一台仪器，所以得到的拋光玻璃表面隆凸和凹陷尺寸相差较大。

用电子显微镜照片即可明显观察到抛光不同阶段的玻璃表面形貌，（a)为 连续磨光机第一排抛光盘后，（b)为通过第二排拋光盘，（c)为通过第四排抛光盘。在第一排抛 光盘后玻璃表面有很多凹凸不平的沟槽，通过第二排抛光盘后玻璃不平之处有所减少，到了第四排抛光盘，玻璃表面大部分已平坦，只有个别隆凸和凹陷之处。

前苏联科学家对拋光机理作了系统的研究，形成了 rpe6emuHK_OB院士、Kaqa^oB院士为代表 的物理-化学抛光理论，认为拋光是一个复杂的物理-化学过程，其中化学作用是主要的，机械 因素是次要的。

拋光过程中，玻璃与拋光悬浮液中的水发生水解作用，在玻璃表面形成1.5〜7. Onm极薄的硅氧膜

水解，也不遭受破坏。

抛光粉颗粒不是从玻璃全部表面去除硅氧膜，而仅在一定的接触点处，即玻璃表面突出之 处，其厚度相当于1.5〜7nm。

决定抛光过程的两个重要因素，第一是硅氧表面膜的成分、性质、厚度和强度，这些又由玻 璃成分、化学性质和参加拋光过程的液体所决定，第二是抛光盘的转速与压力、抛光盘材质、拋 光粉性质。

提高抛光盘的压力，可使其在拋光过程中吸附住更多的抛光粉颗粒；而提高抛光盘转速，在 单位时间内使抛光粉颗粒对玻璃作用数量增加，从而加速拋光过程。

抛光悬浮液中加入少量活性物质对抛光速度有很大影响，拋光悬浮液的pH值也对拋光速度

过程有一定影响。