超光滑和超精密的玻璃表面

玻璃表面的光滑程度，可以用平整程度或粗糙度来表示。平整度一般适用于平板玻璃，包括 LCD基片、FPD基片、光盘和磁盘的基片等。

制板玻璃的平整度要求（3〜5μm)/20mm，一般浮法玻璃可达到，不需抛光。平整度比此要 求还高，就属于超光滑表面，则需进行抛光。如ITO膜基片要求0. 15μm/20mm，无源阵列液晶 显不TN-LCD基板要求0. 2〜0. 25μm/20mm，STN-LCD要求0. 05〜0.1μm/20mm，光掩膜基片 要求50mmX152mm面积的平整度在lO^m以内，精度高的则要求在2_Mm以内。

超光滑抛光指抛光后表面粗糙度很低，如北美地方标准委员会SEM 1对FPD平板玻璃显示 器普通型Genl]型的平均粗糙度要求艮<20nm，有源矩阵_a-Si TFT的粗糙度小于5mn,有源矩 阵P-SiTFT的粗糙度也要求小于5nm。光盘和磁盘对基片的粗糙度要求更精密，表面粗糙度为 1〜6nm。对于这些高平整度和低粗糙的要求，普通的抛光技术是达不到的，于是就研发了新抛 光方法以得到超光滑和超精密的表面。

超精密加工是指加工精度为超精密，精密加工精度在5〜6级以上，加工表面粗糙度艮在 0. 8〜0. 01μm以下的加工工艺方法，超精密加工的粗糙度达到10^-3μm精度指标。超精密抛光属 于超精密加工范围内，玻璃表面抛除量为分子级或原子级，表面粗糙度在纳米水平。

随着光学仪器的使用波段范围向紫外和X射线延伸，对光学部件表面粗糙度的要求也越来 越高。由于表面粗糙而造成的光线散射损失与波长的四次方成反比，所以如果表面粗糙度均方根 值为1〜2nm，对于白光或波长为832.8nm的激光来讲，此表面是非常光滑的，但对于波长为 0.8nm的X射线来讲，则是太粗糙了。近代超光滑技术发展可以达到很小的粗糙度，如采用浴 法拋光（BFT)方法，石英玻璃表面的粗糙度尺R_ms可达到0. 27nm，采用浮法拋光，则表面粗糙度 可小于0. 2nm。