玻璃镀膜法 物理气相沉积法

物理气相沉积（physical vapor deposition，PVD)技术是在真空条件下，采用物理方法，将 镀膜材料（靶材）表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子 体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空 蒸镀、溅射镀、电弧等离子体镀、离子镀及分子束外延等。物理气相沉积有以下几个特点：①镀 膜材料广泛，易于获得。如纯金属、合金、化合物，导电或不导电，低熔点或高熔点，液相或固 相，块状或粉末，都可以使用或经加工后使用。②膜材气化方式灵活，既可用高温蒸发，也可用 低温溅射。③沉积离子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介入，可以获得所需的 沉积离子能量进行镀膜，从而提高膜层质量。④无污染，利于环保。