玻璃镀膜法 真空蒸镀膜工艺

真空蒸镀法也称真空蒸发沉积法、真空蒸发法、真空沉积法，这是一种在真空条件下，用蒸发源加热蒸发物质，使之气化，蒸发粒子流直接射向基片并 在基片上沉积形成固态薄膜的方法。真空蒸镀法是很先发展 起来的物理气相沉积法，优点是设备与工艺相对比较简单，可沉积非常纯净的膜层，可制备具有特定结构和性质的膜层 等，缺点是形成的薄膜与基片结合较差、工艺重复性较差。

真空蒸镀蒸发原理，将膜材置于由金 属或玻璃制成的真空室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸 发分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，蒸气的原 子或分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的 冲击与阻碍，可直接到达被镀的基片表面上，凝结成膜。由 于基片温度较低，为提高蒸发分子与基片的附着力，需对基 片进行适当的加热。

如上所述，蒸发镀膜主要经历四个物理过程

①采用各种蒸发源，加热膜材使之蒸发或升华，成为 具有一定能量（0. 1〜0.3eV)的气态粒子（原子、分子或原子团)。

②离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子输运到 基片表面。

③到达基片表面的气态粒子沉积成固相薄膜。

④组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。

真空蒸镀设备中，很重要的组成部分就是物质的蒸发 源，根据加热原理不同，分为电阻加热式蒸发源、电子束加 热式蒸发源（磁偏转式电子束蒸发源）、电弧蒸发源、激光加 热式蒸发源、空心热阴很等离子束蒸发源、感应加热式蒸发 源等，应用较多的是磁偏转电子束加热式蒸发源，也称e型枪。