玻璃镀膜工艺 真空溅射镀膜法

利用辉光放电产生的荷能粒子（一般为气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象，称为溅射。

当逐渐提高两个电很 之间的电压时，则两很之间就会产生放电现 象，在汤生放电、电晕放电之后，气体会突然 发生放电击穿现象，这时的气体（称之为等离 子体）开始具备了相当的导电能力，由于导电 粒子的数目大量增加，离子碰撞过程伴随的 能量转移也足够的大，因此放电气体会发出明显的辉光（正常辉光放电），当辉光放电区域充满两极之间的整个空间时，即为异常辉光放电，此时放电电压又开始上升；随着电流的继续增加，放电电压将会再次突然大幅度下降，表明等离子体自身的导电能力再次迅速提高，气体开始进入弧光放电阶段。溅射镀膜利用的是异常辉光放电形式，因为它可以提供面积较大、分布较均匀的等离子体，有利于实现大面积的均匀溅射和薄膜沉积。

与真空蒸镀法相比，溅射镀膜的特点是：

①无论何种膜层材料，只要能做成靶材，就可实现溅射。

②溅射所获得的薄膜与基片结合良好。

③溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好。

④溅射工艺重复性好，膜厚可控制，同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。溅射镀膜的缺点是沉积速度较真空蒸发的低，因此基片会受到等离子体的辐照等作用而产生温升。