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金属膜是一种常见的透明导电膜,通常有All、Ag、Pt、Pd、AK Cu等。金属膜的导电性 能好,但是透光率较低。金属膜只有当其厚度减薄到一定程度(一般小于20nm)才能获得比较 高的可见光透过率,但是同时牺牲了其导电性能。而且在沉积或使用过程中由于原子团的迁移等 原因,金属薄膜容易形成岛状结构,而呈现高的电阻率,光学透过性也会降低。其中,金膜耐擦 伤性能差,银膜化学稳定性差,必须涂覆保护层。另外,由于金属膜与衬底材料附着力差,必须 引入过渡层。
为了解决金属导电性好,但是透光率较低的问题,出现了多层膜结构的透明导电膜。选用厚 度小于20nm的高导电性能的Ag金属(M)作为导电层,然后在Ag膜的两侧均沉积一层一定厚 度(纳米数量级)的高折射率和电阻率的介质膜(D)。从薄膜干涉理论得知,当膜的厚度是入 射光在该介质中波长的1/4时,在薄膜两个面上反射光的光程恰好等于半个波长,从而相互干涉 而抵消,这就大大减少了光的反射损失,增强了透射光的强度,起到了增透作用。选择合适的介 质折射率和厚度,可以起到很好的增透作用。因此,利用金属膜的高导电性和介质膜的增透作 用,电介质/金属/电介质(D/M/D)纳米多层膜中的每层各自发挥其优势,从而使他具有比 ITO更优良的综合光电性能。