新型玻璃抛光技术

对于光学玻璃加工，传统的研磨及抛光方法从精度和效率方面已不适应。目前发展了许多新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、离子束抛光技术、光学石英玻璃抛光、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、振动抛光等，这些新技术G完全适应了光学领域迅猛发展的要求。光学透镜新的加工技术，都边检测、边修正，不仅加工精度高，而且加工速度提高几倍至几十倍，对人工技术的依赖性已很小，新研磨和抛光技术的智能化程度都很高，重复精度高。数控研磨和抛光、应力盘抛光技术等，专门针对球面和非球面光学透镜的加工，非常专业化。

（1）浴法抛光

浴法抛光是指工件和抛光盘都浸在抛光液中抛光液的深度以设备静止时淹没工件10〜15mm为宜。搅拌器是使抛光液处于悬浮状 态，不产生沉淀。抛光玻璃时一般使用氧化铁（红粉）、氧化铝等抛光材料。

(2) 离子束抛光

离子束抛光是玻璃工件在传统抛光后，用来进一步提高抛光精度的补充抛光方法。先在 真空（1.33Pa)条件下，使用高频或放电等方法使惰性气体（氩、氪、氙等）原子成为离 子，再用20〜25kV的电压加速，然后碰撞到位于1. 33X10_³Pa真空度的真空室内的被加 工工件表面上，将能量直接传给工件材料原子，使其逸出表面而被去除。这种方法可以使工 件去除厚度达10〜20pm，是典型的采用物理碰撞方法进行的抛光技术，一般情况下表面粗 椅度可达0.01pm,精度高可达0. 6nm。

(3) 等离子体辅助抛光

等离子体辅助抛光是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法，采用特定气体制 成活性等离子体，使活性等离子体与工件表面作用，发生化学反应，生成易挥发的混合气 体，从而将工件表面材料去除。如石英玻璃，采用CF₄抛光气体，激励为等离子体后与石 英玻璃表面的反应为：_SIO2+CF₄ ==SiF₄ f +CO₂ 个 等离子体辅助抛光通常需在1.3X10²Pa真空环境下进行，效率高，表面质量好，表面粗糙 度小于0. 5nm。